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微电子洁净室和洁净区
编辑:東鑫净化工程网 | 发布时间:2017-05-10 10:05 | 浏览次数:
洁净室
对洁净度的要求
空气洁净度级别取决于所完成的工序,最敏感的接触敞露晶园的工序(光刻、酸洗、溅射等),生产特征尺寸为1微米的微电路时,上述工序应在ISO4-ISO5级洁净度的洁净室中完成,若采用更小的特征尺寸时,便需要ISO3级,ISO2级等洁净区。
在需要ISO5级洁净度的工艺方面,广泛采用这样的方案,即高洁净度级别的洁净室占用很大面积,因此便将设备移至洁净室外面,仅有设备控制盘和进出料机构在洁净室内,而设备本身位于洁净度级别较低的技术维修区,当特征尺寸在1微米左右时,可采用这种工艺。
洁净度级别更高的局部洁净区获得了广泛的应用,例如光刻间,化学酸洗间,清洗间等,直通或防护,区域防护和所谓工艺厅都是适合此种工艺的典型洁净室方案,因此高洁净度级别洁净室占用着过多的面积。
对洁净度的要求还会进一步提高,若仍按传统的洁净室概念去对待,必将导致解决方案的非常不合理,其出路就是采用隔离工艺。
隔离工艺:
隔离工艺的实质就是利用洁净空气将周围环境隔开,形成物理隔离的一定空间,通常这一分隔空调称作密闭空间。
因此,将工艺过程与人和环境隔离,就消除了最强的污染源之一,人的影响,隔离工艺的采用引起自动化和机器人化的广泛推广,这就能摆脱人的错误,这样防止人污染工艺的洁净工艺就能向无人工艺过渡,采用无人工艺后,工艺过程就能既不受污染影响,又不受人为错误之害。

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